管束除塵除霧器工作原理

管束除塵除霧器成為了環(huán)保的一大，被許多環(huán)保人士所信賴，那么到底除霧器有什么用處呢？為何會受到消費(fèi)者的信賴與支持呢？

其實(shí)，除霧器主要用于分離塔中氣體夾帶的液滴，以降低有價值的物料損失和塔后壓縮機(jī)的操作，通常情況下設(shè)置在塔頂。使用該種設(shè)備可以去除≥26μ的霧滴，塔盤的傳質(zhì)效率、減小板間距。因此除霧器主要被人們來用于氣液分離，或者是作為空氣過濾器用于氣體分離。

濕法脫硫，它還溶有硫酸、硫酸鹽、二氧化硫等，而這種脫硫方式會將二氧化硫排放到大氣中，造成風(fēng)機(jī)、熱交換器及煙道的玷污和嚴(yán)重腐蝕。因此，濕法脫硫工藝上對吸收設(shè)備提出除霧的要求，被凈化的氣體在離開吸收塔之前要除霧，這也就造就了除霧器的產(chǎn)生，以實(shí)現(xiàn)對于氣體的凈化，使空氣得以清新。

除霧器是用于對工業(yè)吸收塔、脫硫塔等中產(chǎn)生份廢氣、廢煙進(jìn)行凈化處理的設(shè)備。管束式除霧器廠家為方便您對這一設(shè)備有深刻的了解，就其工作原理為您進(jìn)行解讀。

除霧器的工作原理主要有折流板和旋流板兩種方式，在大濕法中應(yīng)用較多的就是折流板除霧器。管束式除霧器廠家的折流板除霧器中，兩板之間的距離為30-50㎜，塔中排放的煙氣中含有的液滴在折流板中曲折流動，在與壁面的不斷碰撞凝聚中形成大顆粒液滴，然后在重力作用下沿著除霧器葉片向下滑落，一直到漿液池，這樣就達(dá)到了除去煙氣中所攜帶的液滴的目的。

從結(jié)構(gòu)上來看，管束式除霧器廠家的折流板除霧器主要有平板式和屋頂式兩種。其中，屋頂式除霧器設(shè)計(jì)流速較大，經(jīng)過波紋板碰撞滴落的霧滴集中留下，煙氣夾帶霧滴現(xiàn)象被減輕，除霧面積也大于平板式，有著的除霧效率，通常出口排放的液滴濃度≤50㎎/m3。而常規(guī)要求設(shè)計(jì)除霧器的出口排放液滴濃度≤7550㎎/m3，由此可見屋頂式除霧器的優(yōu)勢。

管式除霧器是眾多除霧器的一種。它是由四部分組合而成的，這些部件有除霧器支撐梁、兩層或者是三層的管子、隔板以及經(jīng)過設(shè)計(jì)的端板。它的主要功能有三種，分別是去除大霧滴、使煙氣均勻分布以及降低除霧器堵塞風(fēng)險。其中這里提到的大霧滴是指大于400到500μ的霧滴；眾所周知，塔內(nèi)的煙氣流場是不均勻的，而使用管式除霧器則可以克服這個問題；再就是管式除霧器的降低除霧器堵塞風(fēng)險功能。管式除霧器可以阻止絕大多數(shù)帶有石膏固體的漿液進(jìn)入除霧器，這樣就可以起到降低除霧器堵塞風(fēng)險的作用了。

除霧器的組成一般可以分為兩大部分：一，除霧器本體；二，沖洗系統(tǒng)。兩者關(guān)系密不可分。同時兩者的構(gòu)建還存在許多分支。

除霧器本體包含：葉片、卡具、家具、支架它們的組裝按照預(yù)先設(shè)計(jì)好的圖紙安裝以設(shè)備性能穩(wěn)定；除霧器的本體主要作用是為了捕捉氣體中的液滴以及粉塵，降低煙氣帶水量降低風(fēng)機(jī)振動。

除霧器的外形一般可分為水平型、垂直型、屋脊型除霧器。如果需要安裝在吸收唐管道部分推薦您使用垂直款式、高氣液流速管道可以使用屋脊式除霧器。

除霧器清洗系統(tǒng)通常有沖洗噴嘴、沖洗泵、管道、閥門、壓力表、電器控制臺組成。他們的作用是為了除霧器主體收集液滴和粉塵的葉片保持清潔濕潤，以便收集廢棄物維持正常工作。

除霧器作為一款煙氣脫硫的工業(yè)廢氣處理設(shè)備，目前衡量除霧器性能參數(shù)的主要標(biāo)準(zhǔn)是經(jīng)過除霧器煙氣中霧滴的含量、直徑。而影響除霧器性能的因素也包含很多種：煙氣流速、氣流分布均勻度、葉片結(jié)構(gòu)、葉片間距離、除霧器布置樣式等。

一般在除霧器性能要求是讓通過除霧器的霧滴含量在一個周期內(nèi)平均值低于75mg/Nm3，而無霧滴的徑直大于15μm，將其視為標(biāo)準(zhǔn)干煙氣，采樣距離為靠近除霧器1-2米內(nèi)。

影響除霧器性能在一點(diǎn)就是壓力差，通常指煙氣通過除霧器除霧管道所引發(fā)的壓力損失，除霧器系統(tǒng)內(nèi)壓力差越大能耗也就越高。在工作中要合理把握工作狀態(tài)，我們除霧器廠家推薦您盡量將壓力差在200Pa內(nèi)。

除霧器內(nèi)部葉片的間距也是有明確規(guī)定的，如若間距太大會導(dǎo)致除霧效果降低、煙氣帶水嚴(yán)重，對風(fēng)機(jī)造成影響等問題。這方面我們除霧器廠家根據(jù)除霧器煙氣系統(tǒng)將葉片間距定為20-95nm之內(nèi)，目前常用使用的間距為30-50nm。